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小型高頻濺射裝置 RFS-201
 ※圖片為舊型 | 特 性是裝載了RF電源的小型高周波濺射裝置。因為可以為金屬、半導體、絕緣物體成膜，所以Z適合用于基礎研究開發等實驗。 應 用1.緊湊且易于移動。2.TMP 實現高速排氣。3.可通過流量控制閥連續控制進氣4.適當的預濺射 |
規格參數
型 號 | RFS-201 | |
| 真空性能 | 極限壓力 | 6.6 × 10-4Pa |
排氣時間 | 6.6 × 10-3Pa/5min | |
| 真空艙 | 真空艙 | 金屬艙 (200mm(W)×250mm(D)×150mm(H)) |
陰極 | 直徑80mm 1 電極 | |
標準基板 | 直徑80mm × t1-5mm | |
濺射有效區域 | 直徑50mm | |
濺射速度 | SiO2, 成膜速度大于 20nm/min | |
膜厚分布 | SiO2, 在 ±8%直徑50mm | |
基板加熱 | Z大 350 ℃ | |
電極距離 | 30mm – 50mm (可變) | |
| 排氣系統 | 主泵 | 油擴散泵（水冷） 150 L/sec |
液氮冷阱 | 可選 | |
前級泵 | 油旋片真空泵 100 L/min | |
油霧過濾器 | 油霧過濾器 OMT-100A | |
| 操作系統 | 主閥門 | 瓣閥 |
副閥門 | 三向切換閥 | |
自動滲漏閥 | 可選 | |
控制 | 手動控制 | |
| 控制系統 | 射頻電源 | Z大 300W（変量：0 - 300W） |
皮拉尼真空計 | G-TRAN | |
電離真空計 | 可選 | |
| 外形 | 尺寸 | 764mm（W）× 723mm（D）× 1648mm（H） |
重量 | 260kg | |
條件
型 號 | RFS-201 |
電源需求 | 單相, 50/60Hz, 200V, 2.8kVA |
接地端子 | A級（接地抗阻/10Ω 或更低） |
用水需求 | 5.0L/min?。ㄋ疁兀旱陀?5℃、水壓：200-300kPa） |
附件（電源） | 乙烯絕緣軟電纜（R2-5 帯端子） 4m |
附件（接地） | 地線（銅板） 4m |
附件（冷卻水） | 蒂托輪編織軟管 （內徑9mm × 外徑15mm） 4m（2根） |
外形圖
真空室內部構造
 | [1]真空室[2]靶材電極[3]基板電極[4]開閉器[5]電流導入端子[6]熱電偶接線端子[7]真空計孔[8]取樣托盤[9]背板[10]靶材[11]服務端口[12]前門 |
| 可選部件 |
● 液氮冷阱 | ● 電離真空計 |
● 磁控管 | ● 直線過濾器（管道連接類型油霧過濾器）OMI-100 |
● 渦輪分子泵 | ● 直流電源 |
● 導入氣體（2、3 根） | ● 油旋片真空泵用自動滲漏閥 |
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